Sifat dan Pembuatan Senyawa Halogen

Senyawa halogen yang penting adalah asam hidrogen halida (HX), asam okso-halida (HXOn), dan garamnya (MX). Setiap unsur halogen dapat membentuk senyawa biner dengan hidrogen: HF, HCl, HBr, dan HI. Semuanya merupakan gas tak berwarna dengan bau sangat tajam.
Titik didih asam halida meningkat dari atas ke bawah dalam sistem periodik (HCl = –85°C; HBr = –67°C; HI = –35°C), kecuali HF memiliki titik didih paling tinggi, yaitu 20°C. Penyimpangan ini sebagai akibat adanya ikatan hidrogen antarmolekul HF yang sangat kuat dibandingkan asam-asam halida yang lain.
Kekuatan asam halida di dalam pelarut air meningkat dari atas ke bawah dalam tabel periodik. Hal ini disebabkan oleh jari-jari atom halogen yang makin besar sehingga kemampuan menarik atom H makin lemah, akibatnya atom H mudah lepas.
Asam-asam halida di dalam air terionisasi sempurna, kecuali asam fluorida tergolong asam lemah dengan derajat ionisasi 2,9%. Persamaan ionisasinya:

Asam-asam halida dapat disintesis langsung dari unsur-unsurnya, seperti berikut ini.
Gas F₂ dan H₂ bereaksi sangat dahsyat membentuk senyawa HF, tetapi reaksinya tidak memiliki nilai komersial, sebab gas F₂ sendiri dibuat dari penguraian HF. H₂(g) + F₂(g) →2HF(g)
Senyawa HCl dibuat melalui reaksi gas Cl₂ dan H₂ berlebih. H₂(g) + Cl₂(g) →2HCl(g)
HBr dan HI dibuat dengan cara serupa, tetapi menggunakan katalis platina sebab reaksi tanpa katalis sangat lambat.

Umumnya, asam-asam halida disintesis melalui pemanasan garam halida dengan asam yang tidak mudah menguap, seperti berikut ini.
HF, dibuat dari garam CaF₂ dan asam sulfat pekat. Reaksinya: CaF₂(s) + H₂SO₄(l) →CaSO₄(s) + 2HF(g)
HCl, dibuat dari natrium klorida dan asam sulfat pekat. Reaksinya: NaCl(s) + H₂SO₄(l) →NaHSO₄(s) + HCl(g) . Pada suhu tinggi, hasil yang terbentuk adalah natrium sulfat: NaCl(s) + NaHSO₄(l) →Na₂SO₄(s) + HCl(g)
HBr dan HI, tidak dapat dibuat dengan H₂SO₄, sebab dapat mengoksidasi Br^– dan I^– menjadi unsur-unsurnya. Dalam hal ini digunakan asam fosfat. Reaksinya: NaBr(s) + H₃PO₄(l) →HBr(g) + NaH₂PO₄(s)
Kegunaan utama HF adalah sebagai bahan baku pembuatan CCl₃F, freon, dan teflon. Senyawa CCl₃F digunakan sebagai pendingin dan bahan bakar aerosol, yang disintesis dari CCl₄ dan HF dengan antimon pentafluorida sebagai katalis. Reaksinya: CCl₄(l) + HF(g) →CCl₃F(aq) + HCl(g)
Kegunaan utama HF yang lain adalah sebagai cairan elektrolit dalam pengolahan mineral aluminium dan untuk melukis/mengetsa gelas. Dalam mengeetsa gelas, HF bereaksi dengan silika (SiO₂), kemudian bereaksi dengan gelas. Reaksinya:

Senyawa HCl adalah asam keempat yang penting bagi industri asam setelah asam sulfat, fosfat, dan nitrat. Asam ini digunakan untuk membersihkan permukaan logam dari oksida (disebut pickling) dan untuk mengekstrak bijih logam tertentu, seperti tungsten.
Dalam elektrolisis larutan NaCl, gas Cl₂ yang dihasilkan pada anode dapat bereaksi dengan larutan NaOH yang dihasilkan di katode membentuk natrium hipoklorit. Reaksinya:
Cl₂(g) + 2NaOH(aq) → NaClO(aq) + NaCl(aq) + H₂O(l)
Larutan NaClO digunakan sebagai pemutih pada industri tekstil. Ion hipoklorit tidak stabil, dan terdisproporsionasi membentuk ion klorat, ClO₃^– dan ion klorida, Cl^–. Reaksinya: 3ClO^–(aq) → ClO₃^–(aq) + 2Cl^–(aq)